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metadata.dc.type: Dissertação
Title: Deposição de filmes de tio2 usando plasma em gaiola catódica
metadata.dc.creator: Morais, Priscila Borges de
metadata.dc.contributor.advisor1: Alves Junior, Clodomiro
metadata.dc.contributor.advisor-co1: Costa, José Alzamir Pereira da
metadata.dc.contributor.referee1: Alves Junior, Clodomiro
metadata.dc.contributor.referee2: Costa, José Alzamir Pereira da
metadata.dc.contributor.referee3: Fraga, Francisco Edson Nogueira
metadata.dc.contributor.referee4: Sousa, Rômulo Ribeiro Magalhães de
metadata.dc.description.resumo: Òxidos de titânio são muito estudados devido sua importância em aplicações tribomecânicas, biomédicas, ópticas e eletrônicas. Pesquisas em novas tecnologias que ampliem e/ou reduzam custos estão sendo constantemente buscadas. No presente trabalho foi utilizada uma técnica alternativa de deposição de filmes, denominada de plasma por descarga em gaiola catódica (PDGC), visando estudar a influência dos parâmetros do processo sobre as características do filme. Utilizou-se como substrato o vidro. O processo de deposição foi realizado num reator, mantendo fixos a pressão e temperatura. Utilizou-se diferentes concentrações da mistura Ar-O2 para a atmosfera do plasma e tempos de deposição variando de 1h-8h. Os filmes obtidos foram caracterizados quanto à molhabilidade, fases cristalinas, microestrutura, transmitância e absorbância óptica. Verificou-se que houve a formação de dióxido de titânio em todas as amostras, com predominância da estrutura rutilo. A espessura dos filmes cresceu proporcionalmente ao tempo de deposição e fluxo de oxigênio, com taxa de deposição entre 1,93 e 6,07 nm/min. Verificou-se que o processo de deposição por gaiola catódica foi eficaz e que nessas condições produziu filmes de TiO2 com propriedades que podem ser aplicadas em superfícies autolimpantes e fotocatalíticas
Abstract: Titanium oxides are well studied due to their importance in tribo-mechanical, biomedical, optical and electronic applications. Research into new technologies that increase and / or reduce costs are constantly being sought. In the present work, an alternative film deposition technique, called cathodic discharge plasma (PDGC), was used to study the influence of the process parameters on the characteristics of the film. Glass was used as the substrate. The deposition process was carried out in a reactor, maintaining fixed pressure and temperature. Different concentrations of the Ar-O2 mixture were used for the plasma atmosphere and deposition times ranging from 1h-8h. The obtained films were characterized for wettability, crystalline phases, microstructure, transmittance and optical absorbance. It was verified that there was the formation of titanium dioxide in all the samples, with predominance of the rutile structure. The thickness of the films increased proportionally to the time of deposition and oxygen flow, with deposition rate between 1,93 and 6,07 nm/min. The cathodic cushion deposition process was found to be effective and under these conditions produced TiO2 films with properties that can be applied to self-cleaning and photocatalytic surfaces
Keywords: Gaiola-Catódica
Plasma
Filmes Finos
Anatase
Rutilo
Cathodic Cage
Plasma
Thin Films
Anatase
Rutile
metadata.dc.subject.cnpq: CNPQ::ENGENHARIAS
metadata.dc.language: por
metadata.dc.publisher.country: Brasil
Publisher: Universidade Federal Rural do Semi-Árido
metadata.dc.publisher.initials: UFERSA
metadata.dc.publisher.department: Centro de Engenharias - CE
metadata.dc.publisher.program: Programa de Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais
Citation: Citação com autor incluído no texto: Morais (2017) Citação com autor não incluído no texto: (MORAIS, 2017)
metadata.dc.rights: Acesso Aberto
URI: http://repositorio.ufersa.edu.br/handle/prefix/3721
Issue Date: 27-Sep-2017
Appears in Collections:MESTRADO EM CIÊNCIA E ENGENHARIA DE MATERIAS

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